首页HS编码第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
84862
02100
8486202100

制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD))

Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis

所属类别第十六类 机器、机械器具、电气设备及其零件；录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件、附件（84~85章）
所属章节第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
计量单位台 / 无
监管条件无
检验检疫无
最惠国进口0%
普通进口30%
暂定进口-
消费税-
出口税率0%
出口退税16%
增值税16%

申报要素

1. 0:品牌类型2. 1:出口享惠情况3. 2:用途4. 3:功能5. 4:品牌6. 5:型号7. 6:GTIN8. 7:CAS

申报实例

1.金属有机物化学气相淀积设备；2.用于制造外延片；3.由压力控制，温度控制，反应室等子系统通过计算机软件连接组成，可按照设计需求独立设定气流，压力，温度等工艺参数值，制备满足设计需求的外延片；4.无品牌；5.无型号
返回HS编码查询
8486202100 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装… - HS编码查询,海关编码,申报要素_物流巴巴